除去下列少量杂质(括号内杂质),并写出有关变化的离子方程式:物质除杂物质的化学式离子方程式SiO2(Al

2025-04-25 04:30:16
推荐回答(1个)
回答1:

氧化铝与盐酸反应,而二氧化硅不能,除杂试剂为HCl,离子反应为Al2O3+6H+=2Al3++3H2O;
氧化铝与NaOH反应,而MgO不能,除杂试剂为NaOH,离子反应为Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O;
Fe与氯化铁反应生成氯化亚铁,除杂试剂为Fe,离子反应为2Fe3++Fe═3Fe2+
碳酸钙与盐酸反应,而二氧化硅不能,除杂试剂为HCl,离子反应为CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O,
故答案为:

物质 除杂物质的化学式 离子方程式
SiO2(Al2O3 HCl Al2O3+6H+=2Al3++3H2O
MgO(Al2O3 NaOH Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O
FeCl2(FeCl3 Fe 2Fe3++Fe═3Fe2+
SiO2(CaCO3 HCl CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O