如何提高二氧化硅与光刻胶的粘附性可以在硅片底层上coating一层薄薄的HMDS(hexamethyldisilazane),然后再涂PR,此溶剂的主要作用就是让硅片的SIO2表层结构由亲水性变成疏水性,和PR同为溶剂的HMDS可以更好的结合,粘附性会更好,也不会产生bubble。