一般的磁控溅射基材都是不加温的，镀膜过程中，原子、原子团、分子沉积在基材上引起的温度升高一般不会太高，当然如果想附着力提高的话，提前预热基材倒是可以的。一般普通磁控溅射基材温度也就40-50℃。溅射材质关系不是太大，倒是溅射功率影响很大，调整溅射功率控制基材温度吧。塑料上镀膜一般没有问题，国内多家手机壳镀膜都在实现。主要就是需要提前对塑料基材进行去油、清洗等处理。
基底温度是要看你所用的材料而定，金属基底温度可以高一些，甚至可以加热到近300度，结合力也更好。如是塑料基底，因为本身耐温差，因此不适宜加热。当然可以在塑料上镀铜的，但是必须先做离子轰击处理。
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