单位气体分子数不就是密度么，这个是理想气体也没关系吧。理想气体的克劳伯龙方程PV=NRT，这个是压强、温度以及密度之间的联系。它的限用范围也是在低温、高压误差会变大，在真空镀膜中根本不会遇到大误差的极限情况。
另外在真空磁控溅射镀膜，加入的气体是氩气吧，作为单原子分子它的模型比其他双原子气体分子或多原子气体分子更接近理想气体。
你所说的不同级别的真空度下加入等量单位气体，加入后还会继续抽一段时间的真空把压强固定到一个设定值吧，而此时氩气的密度影响镀膜效果的主要因素。氩气密度太低就不会有足够多的离子电离出来，密度太大气体分子间的平均自由程就小，离子就不能加速到足够高的能量去电离氩气。
所以就对应了一个最佳的气压值。不知道你所说的对生产参数影响是不是由于加入氩气后气压不同造成的。
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